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鍍膜機(jī)分類

更新時(shí)間:2013-05-02      點(diǎn)擊次數(shù):2091

真空鍍膜機(jī)要分類有兩個(gè)大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。

一、對于蒸發(fā)鍍膜:
 
 一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。

 厚度均勻性主要取決于:
  1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
  2、基片表面溫度
  3、蒸發(fā)功率,速率
  4、真空度
  5、鍍膜時(shí)間,厚度大小。
 
 組分均勻性:

 蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

 晶向均勻性:

  1、晶格匹配度
  2、基片溫度
  3、蒸發(fā)速率

 濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

 濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因?yàn)槭敲}沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

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